Pravidlo dvojné vazby udává, že prvky s hlavním kvantovým číslem valenčních elektronů vyšším než 2 (prvky třetí nebo vyšší periody) většinou nevytváří násobné (dvojné, trojné, ...) vazby.[1] Pokud se příslušné dvojné vazby vytvoří, jsou často slabé kvůli malému překryvu orbitalů. Odpovídající sloučeniny nemusí být nutně nestabilní, ale místo toho být náchylné k polymerizaci; jako příklad lze uvést prudkou polymerizaci při kondenzaci disíry (S2), těžšího analogu dikyslíku (O2). Z tohoto pravidla existuje řada výjimek.[2]

Dvojné vazby na uhlík a sousední prvky
B
bor
(n=2)
C
uhlík
(n=2)
N
dusík
(n=2)
O
kyslík
(n=2)
Si
křemík
(n=3)
P
fosfor
(n=3)
S
síra
(n=3)
B diboreny alkylidenborany aminoboranylideny, vzácné[3] oxoborany, vzácné, rychle se oligomerizují[4] borasileny (vzácné)[5] boranylidenfofany, vzácné, je známo několik stabilních případů[6] thioxoborany, vzácné[7]
C alkeny iminy karbonylové sloučeniny sileny fosfaalkeny thioketony
N azosloučeniny nitrososloučeniny silaniminy, vzácné, snadno se oligomerizují, pozorovány jen za nízkých teplot[8] fosfazeny (P=N) sulfiliminy
O singletový kyslík silanony, vazby Si=O jsou značně reaktivní, objevuje se oligomerizace na siloxany řada skupin, například fosfinoxidy, fosfonáty, fosfináty,
fosforečnany
sulfoxidy
Si disileny silylidenfosfany (také nazývané jako fosfasileny, vzácné[9] silanthiony, vzácné, snadno se oligomerizují[10]
P difosfeny běžné, například v  thiofosforečnanech a fosfinsulfidech, například trifenylfosfinsulfidu, také u 1,3,2,4-dithiadifosfetan-2,4-disulfidů
S disíra, thiosulfoxidy

Trojné vazby

Triple bonds for carbon and nearest neighbours
B
bor
(n=2)
C
uhlík
(n=2)
N
dusík
(n=2)
O
kyslík
(n=2)
Si
křemík
(n=3)
P
fosfor
(n=3)
S
síra
(n=3)
Ge
germanium
(n=4)
As
arsen
(n=4)
B Diboryny známo u (t-Bu)BN(t-Bu)
C alkyny kyanidy oxid uhelnatý (C≡O) silyny fosfaalkyny sulfid uhelnatý (C≡S) arsaalkyny
N didusík, diazoniové soli nitrid fosforitý (P≡N)
Si disilyny
P difosfor
Ge digermyn

Odkazy

Reference

V tomto článku byl použit překlad textu z článku Double bond rule na anglické Wikipedii.

  1. Peter Jutzi. New Element‐Carbon (p‐p)π Bonds. Angewandte Chemie International Edition in English. S. 232–245. DOI 10.1002/anie.197502321. 
  2. Robert West. Multiple bonds to silicon: 20 years later. Polyhedron. S. 467–472. DOI 10.1016/S0277-5387(01)01017-8. 
  3. Bylo provedeno několik studií zaměřených na izomerizaci B=NH2 na trojnásobně vázaný iminoboran, HBNH.Victor M. Rosas-Garcia; T. Daniel Crawford. The aminoboranylidene–iminoborane isomerization. The Journal of Chemical Physics. S. 10647-10652. DOI 10.1063/1.1620498. Bibcode 2003JChPh.11910647R. 
  4. Dragoslav Vidovic; Jennifer A. Moore; Jamie N. Jones; Alan H. Cowley. Synthesis and Characterization of a Coordinated Oxoborane: Lewis Acid Stabilization of a Boron−Oxygen Double Bond. Journal of the American Chemical Society. S. 4566–4567. DOI 10.1021/ja0507564. PMID 15796509. 
  5. Daniel Franz; Tibor Szilvási; Alexander Pöthig; Shigeyoshi Inoue. Isolation of an N‐Heterocyclic Carbene Complex of a Borasilene. Chemistry – A European Journal. S. 11036-11041. DOI 10.1002/chem.201902877. PMID 31241215. 
  6. FNapříklad Ar*P=B(TMP)2, kde TMP = 2,2,6,6-tetramethylpiperidin a Ar* = 2,6-dimesityl-fenylEric Rivard; W. Alexander Merrill; James C. Fettinger; Robert Wolf; Geoffrey H. Spikes; Philip P. Power. Boron−Pnictogen Multiple Bonds: Donor-Stabilized PB and AsB Bonds and a Hindered Iminoborane with a B−N Triple Bond. Inorganic Chemistry. S. 2971–2978. DOI 10.1021/ic062076n. PMID 17338516. 
  7. Norihiro Tokitoh; Mitsuhiro Ito; Renji Okazaki. Formation and reactions of a thioxoborane, a novel boron-sulfur double-bond compound. Tetrahedron Letters. 1996, s. 5145–5148. DOI 10.1016/0040-4039(96)01039-8. 
  8. Steven S. Zigler; Robert West; Josef Michl. Observation of a Silanimine in an Inert Matrix and in Solution at Low Temperature. Chemistry Letters. 1986, s. 1025–1028. DOI 10.1246/cl.1986.1025. 
  9. například Ar*tBuSi=PAr*, kde Ar* = 2,4,6-trisiopropylfenyl a tBu = terc-butyl M. Driess; S. Rell; K. Merz. Ungewöhnliche Reaktivität der Silicium-Phosphor-Doppelbindung in einem Silyliden(fluorsilyl)phosphan: Intramolekulare C,H-Inserierung und seine Umwandlung in ein neues Silyliden(silyl)phosphan. Zeitschrift für Anorganische und Allgemeine Chemie. 1999, s. 1119–1123. DOI 10.1002/(SICI)1521-3749(199907)625:7<1119::AID-ZAAC1119>3.0.CO;2-1. 
  10. Hiroyuki Suzuki; Norihiro Tokitoh; Shigeru Nagase; Renji Okazaki. The First Genuine Silicon-Sulfur Double-Bond Compound: Synthesis and Crystal Structure of a Kinetically Stabilized Silanethione. Journal of the American Chemical Society. 1994, s. 11578-11579. DOI 10.1021/ja00104a052.